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以下是从NVIDIA 首席设计师David B Kirk得到的最新信息：
· NVIDIA目的在于每年都开发带有全新架构的新型GPU ，而且在每隔6个月就推出性能更好的产品。比如，NV20即GeForce3 (可编程的顶点和像素阴影)是全新架构的一款GPU，而 NV25即GeForce4是随后的性能增强版本。
· 双顶点阴影处理单元代替双像素阴影处理单元的理由在于双顶点阴影在相同时间内可以处理更多的顶点，这样可以增加几何图形处理数量。一个像素阴影处理单元使用当前的0.15微米制程会占用几乎两倍于顶点阴影处理单元的硅芯片面积，配备双像素阴影处理单元将占用过多的芯片核心尺寸。
· AA反锯齿的提出是用来改善打开反锯齿后的性能，目的在于打开反锯齿后降低性能下降。以当前条件，打开AA后仍然不能阻止性能下降，但已经到了人们可以接受的程度。随着液晶显示器的流行，可以显示锐利画面的AA模式会愈加重要。
· NVIDIA也对新的0.13微米制程感兴趣，但这项技术至今还不成熟。因此下一代NVIDIA GPU NV30可以会等到今年下半年才使用0.13微米制程。
· 在GeForce4的桌面版本使用TSMC高速‘HS’版本的0.15 微米制程时，其移动版本使用了TSMC低电压‘LV’版本的0.15 微米制程。
· 要注意到NVIDIA 将配备2、4和8这样等级递增的管线数量，因此就不会出现6条管线配置。下一代GPU可以采用8条管线。 |
